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產(chǎn)品展示
  • 更新時間:2024-11-08    訪問量:4408

    熱誘導化學氣相沉積是用于各種電介質(zhì),半導體和金屬材料的保護涂層的沉積的有力方式,無論是單晶,多晶,無定形或外延狀態(tài)上或大或小的形態(tài)。典型的涂層材料包括熱解碳,碳化硅,氮化硼。通過使用合成前體,涂層非常純凈并目滿足半導體工業(yè)的典型要求,根據(jù)工藝參數(shù),可以有多種層厚度,從單個或幾個原子層到厚度從10納米到數(shù)百微米的固體保護層或功能層,以及厚度達100微米的單片部件,甚至高達數(shù)毫米。

聯(lián)系

  • 電話:13917898272

  • 郵箱:sale@haoyue-group.com

  • 地址:上海市嘉定區(qū)嘉松北路7301號B2棟

  • 工廠:江蘇省南通市通州區(qū)聚豐科創(chuàng)產(chǎn)業(yè)園1號廠房

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