當(dāng)前位置：首頁 > 產(chǎn)品展示 > C系列氣相沉積爐 > VVCgr-110/120-1600-氣相沉積爐

VVCgr-110/120-1600-氣相沉積爐

簡要描述：熱誘導(dǎo)化學(xué)氣相沉積是用于各種電介質(zhì),半導(dǎo)體和金屬材料的保護涂層的沉積的有力方式，無論是單晶，多晶，無定形或外延狀態(tài)上或大或小的形態(tài)。典型的涂層材料包括熱解碳，碳化硅，氮化硼。通過使用合成前體，涂層非常純凈并目滿足半導(dǎo)體工業(yè)的典型要求，根據(jù)工藝參數(shù)，可以有多種層厚度，從單個或幾個原子層到厚度從10納米到數(shù)百微米的固體保護層或功能層，以及厚度達100微米的單片部件，甚至高達數(shù)毫米。

更新日期：2024-11-08
訪問量：4408

技術(shù)數(shù)據(jù)
規(guī)格
應(yīng)用
主要成分
下載

氣相沉積爐簡介

熱誘導(dǎo)化學(xué)氣相沉積 (英語:chemical vapor deposition ,CVD)是用于各種電介質(zhì),半導(dǎo)體和金屬材料的保護涂層的沉積的有力方式，無論是單晶，多晶，無定形或外延狀態(tài)上或大或小的形態(tài)。典型的涂層材料包括熱解碳，碳化硅，氮化硼。通過使用合成前體，涂層非常純凈并目滿足半導(dǎo)體工業(yè)的典型要求，根據(jù)工藝參數(shù)，可以有多種層厚度，從單個或幾個原子層到厚度從10納米到數(shù)百微米的固體保護層或功能層，以及厚度達100微米的單片部件，甚至高達數(shù)毫米。

熱誘導(dǎo)的化學(xué)氣相滲透(英語:chemical vaporinfiltration ,CVI)是一個與CVD有關(guān)的技術(shù)，以在基體材料滲入多孔或纖維預(yù)成型件以制備由復(fù)合材料制成的部件具有改善的機械性能，耐腐蝕性，耐熱沖擊性和低殘余應(yīng)力。
技術(shù)特點：

采用立式、底/頂開門結(jié)構(gòu)：裝、卸料精度高，操作方便；
采用先進的控制技術(shù)，能精密控制MTS的流量和壓力，爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定，壓力波動范圍小；
溫度均勻性好：平均溫度均勻性為±5℃；
采用多通道沉積氣路，流場均勻，無沉積死角，沉積效果好；
全封閉沉積室，密封效果好，抗污染能力強；
安全性能好：采用HMI+PLC+PID程序控溫制，安全可靠；
對沉積產(chǎn)生的高腐蝕性尾氣、易燃易爆氣體、固體粉塵及低熔點粘性產(chǎn)物能進行有效處理；
多級高效尾氣處理系統(tǒng)，環(huán)境友好，能高效收集焦油及副產(chǎn)物，易清理；
采用設(shè)計防腐蝕真空機組，持續(xù)工作時間長，維修率極低。

設(shè)備規(guī)格：

產(chǎn)品編號	產(chǎn)品型號	有效區(qū)尺寸（mm）	冷態(tài)極限真空度(Pa)	最高工作溫度(℃)	適用工藝
C4VGR16	VVCgr-56/60-1600	Φ560x600	1	1600	CVD/CVI
C6VGR16	VVCgr-84/90-1600	Φ840x900	1	1600	CVD/CVI
C8VGR16	VVCgr-110/120-1600	Φ1100x1200	1	1600	CVD/CVI
C10VGR16	VVCgr-140/200-1600	Φ1400x2000	1	1600	CVD/CVI

產(chǎn)品咨詢

留言框

產(chǎn)品：
留言內(nèi)容：
您的單位：
您的姓名：
聯(lián)系電話：
常用郵箱：
詳細地址：
驗證碼：

上一篇：G2GR20/P/1-真空氣壓熱壓多功能爐
下一篇：真空擴散焊爐

亚洲欧洲精品久久无码_97国产超碰_色婷婷婷亚洲综合丁香五月_久久久久免费看黄A毛片肥婆_亚洲无码一二三区

VVCgr-110/120-1600-氣相沉積爐

留言框

產(chǎn)品：

留言內(nèi)容：

您的單位：

您的姓名：

聯(lián)系電話：

常用郵箱：

詳細地址：

驗證碼：